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基于漏極導(dǎo)通區(qū)特性理解MOSFET開關(guān)過程

發(fā)布時(shí)間:2009-10-26 來源:萬代半導(dǎo)體元件上海有限公司

中心議題:
  • 基于功率MOSFET的柵極電荷特性的開關(guān)過程
  • 基于功率MOSFET的導(dǎo)通區(qū)特性的開關(guān)過程
解決方案:
  • 功率MOSFET動態(tài)經(jīng)過是關(guān)斷區(qū)、恒流區(qū)和可變電阻區(qū)
  • MOSFET工作于放大狀態(tài),Id電流為Vgs電壓和跨導(dǎo)乘積
本文先介紹了基于功率MOSFET的柵極電荷特性的開關(guān)過程;然后介紹了一種更直觀明析的理解功率MOSFET開關(guān)過程的方法:基于功率MOSFET的導(dǎo)通區(qū)特性的開關(guān)過程,并詳細(xì)闡述了其開關(guān)過程。開關(guān)過程中,功率MOSFET動態(tài)的經(jīng)過是關(guān)斷區(qū)、恒流區(qū)和可變電阻區(qū)的過程。在跨越恒流區(qū)時(shí),功率MOSFET漏極的電流和柵極電壓以跨導(dǎo)為正比例系列,線性增加。米勒平臺區(qū)對應(yīng)著最大的負(fù)載電流??勺冸娮鑵^(qū)功率MOSFET漏極減小到額定的值。

MOSFET的柵極電荷特性與開關(guān)過程盡管MOSFET在開關(guān)電源、電機(jī)控制等一些電子系統(tǒng)中得到廣泛的應(yīng)用,但是許多電子工程師并沒有十分清楚的理解MOSFET開關(guān)過程,以及MOSFET在開關(guān)過程中所處的狀態(tài)。一般來說,電子工程師通?;跂艠O電荷理解MOSFET的開通的過程,如圖1所示。此圖在MOSFET數(shù)據(jù)表中可以查到。


圖1 AOT460柵極電荷特性

MOSFET的D和S極加電壓為VDD,當(dāng)驅(qū)動開通脈沖加到MOSFET的G和S極時(shí),輸入電容Ciss充電,G和S極電壓Vgs線性上升并到達(dá)門檻電壓VGS(th),Vgs上升到VGS(th)之前漏極電流Id≈0A,沒有漏極電流流過,Vds的電壓保持VDD不變。
當(dāng)Vgs到達(dá)VGS(th)時(shí),漏極開始流過電流Id,然后Vgs繼續(xù)上升,Id也逐漸上升,Vds仍然保持VDD。當(dāng)Vgs到達(dá)米勒平臺電壓VGS(pl)時(shí),Id也上升到負(fù)載電流最大值ID,Vds的電壓開始從VDD下降。米勒平臺期間,Id電流維持ID,Vds電壓不斷降低。

米勒平臺結(jié)束時(shí)刻,Id電流仍然維持ID,Vds電壓降低到一個(gè)較低的值。米勒平臺結(jié)束后,Id電流仍然維持ID,Vds電壓繼續(xù)降低,但此時(shí)降低的斜率很小,因此降低的幅度也很小,最后穩(wěn)定在Vds=Id×Rds(on)。因此通??梢哉J(rèn)為米勒平臺結(jié)束后MOSFET基本上已經(jīng)導(dǎo)通。

對于上述的過程,理解難點(diǎn)在于為什么在米勒平臺區(qū),Vgs的電壓恒定?驅(qū)動電路仍然對柵極提供驅(qū)動電流,仍然對柵極電容充電,為什么柵極的電壓不上升?而且柵極電荷特性對于形象的理解MOSFET的開通過程并不直觀。因此,下面將基于漏極導(dǎo)通特性理解MOSFET開通過程。

MOSFET的漏極導(dǎo)通特性與開關(guān)過程MOSFET的漏極導(dǎo)通特性如圖2所示。MOSFET與三極管一樣,當(dāng)MOSFET應(yīng)用于放大電路時(shí),通常要使用此曲線研究其放大特性。只是三極管使用的基極電流、集電極電流和放大倍數(shù),而MOSFET使用柵極電壓、漏極電流和跨導(dǎo)。


圖2 AOT460的漏極導(dǎo)通特性

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三極管有三個(gè)工作區(qū):截止區(qū)、放大區(qū)和飽和區(qū),MOSFET對應(yīng)是關(guān)斷區(qū)、恒流區(qū)和可變電阻區(qū)。注意:MOSFET恒流區(qū)有時(shí)也稱飽和區(qū)或放大區(qū)。當(dāng)驅(qū)動開通脈沖加到MOSFET的G和S極時(shí),Vgs的電壓逐漸升高時(shí),MOSFET的開通軌跡A-B-C-D如圖3中的路線所示。


圖3 AOT460的開通軌跡

開通前,MOSFET起始工作點(diǎn)位于圖3的右下角A點(diǎn),AOT460的VDD電壓為48V,Vgs的電壓逐漸升高,Id電流為0,Vgs的電壓達(dá)到VGS(th),Id電流從0開始逐漸增大。

A-B就是Vgs的電壓從VGS(th)增加到VGS(pl)的過程。從A到B點(diǎn)的過程中,可以非常直觀的發(fā)現(xiàn),此過程工作于MOSFET的恒流區(qū),也就是Vgs電壓和Id電流自動找平衡的過程,即Vgs電壓的變化伴隨著Id電流相應(yīng)的變化,其變化關(guān)系就是MOSFET的跨導(dǎo):
   ,
跨導(dǎo)可以在MOSFET數(shù)據(jù)表中查到。
 
當(dāng)Id電流達(dá)到負(fù)載的最大允許電流ID時(shí),此時(shí)對應(yīng)的柵級電壓。由于此時(shí)Id電流恒定,因此柵極Vgs電壓也恒定不變,見圖3中的B-C,此時(shí)MOSFET處于相對穩(wěn)定的恒流區(qū),工作于放大器的狀態(tài)。
 
開通前,Vgd的電壓為Vgs-Vds,為負(fù)壓,進(jìn)入米勒平臺,Vgd的負(fù)電壓絕對值不斷下降,過0后轉(zhuǎn)為正電壓。驅(qū)動電路的電流絕大部分流過CGD,以掃除米勒電容的電荷,因此柵極的電壓基本維持不變。Vds電壓降低到很低的值后,米勒電容的電荷基本上被掃除,即圖3中的C點(diǎn),于是,柵極的電壓在驅(qū)動電流的充電下又開始升高,如圖3中的C-D,使MOSFET進(jìn)一步完全導(dǎo)通。
 
C-D為可變電阻區(qū),相應(yīng)的Vgs電壓對應(yīng)著一定的Vds電壓。Vgs電壓達(dá)到最大值,Vds電壓達(dá)到最小值,由于Id電流為ID恒定,因此Vds的電壓即為ID和MOSFET的導(dǎo)通電阻的乘積。
 
結(jié)論
 
基于MOSFET的漏極導(dǎo)通特性曲線可以直觀的理解MOSFET開通時(shí),跨越關(guān)斷區(qū)、恒流區(qū)和可變電阻區(qū)的過程。米勒平臺即為恒流區(qū),MOSFET工作于放大狀態(tài),Id電流為Vgs電壓和跨導(dǎo)乘積。
 
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