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如何化解第三代半導(dǎo)體的應(yīng)用痛點(diǎn)

發(fā)布時(shí)間:2022-06-08 來(lái)源:貿(mào)澤電子 責(zé)任編輯:wenwei

【導(dǎo)讀】在集成電路和分立器件領(lǐng)域,硅始終是應(yīng)用最廣泛、技術(shù)最成熟的半導(dǎo)體材料,但硅材料技術(shù)的成熟恰恰意味著難以突破瓶頸。為了打破固有屏障,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)進(jìn)一步深入對(duì)新材料、新工藝、新架構(gòu)的探索。憑借著在功率、射頻應(yīng)用中的顯著性能優(yōu)勢(shì),第三代半導(dǎo)體逐漸顯露出廣闊的應(yīng)用前景和市場(chǎng)發(fā)展?jié)摿Α?/p>


所謂第三代半導(dǎo)體,即禁帶寬度大于或等于2.3eV的半導(dǎo)體材料,又稱寬禁帶半導(dǎo)體。常見(jiàn)的第三代半導(dǎo)體材料主要包括碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氮化鋁(AIN)、氧化鋅(ZnO)和金剛石等,其中又以碳化硅和氮化鎵材料技術(shù)的發(fā)展最為成熟。與第一代、第二代半導(dǎo)體材料相比,第三代半導(dǎo)體材料通常具備更寬的禁帶寬度、更高的擊穿場(chǎng)強(qiáng)、更高的熱導(dǎo)率,電子飽和速率和抗輻射能力也更勝一籌,在高溫、高壓、高頻、高功率等嚴(yán)苛環(huán)境下,依然能夠保證性能穩(wěn)定。


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圖1:第三代半導(dǎo)體的材料特性

(圖源:STMicroelectronics)


從應(yīng)用領(lǐng)域來(lái)看,第三代半導(dǎo)體材料廣泛應(yīng)用于射頻器件、光電器件、功率器件等領(lǐng)域。以功率半導(dǎo)體市場(chǎng)為例,據(jù)TrendForce集邦咨詢報(bào)告,在新能源汽車(chē)、光伏儲(chǔ)能、智能電網(wǎng)等市場(chǎng)需求拉動(dòng)下,預(yù)計(jì)2025年第三代半導(dǎo)體功率市場(chǎng)規(guī)模將增至47.1億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率高達(dá)45%。從下游細(xì)分市場(chǎng)來(lái)看,由于材料性能不盡相同,碳化硅與氮化鎵在應(yīng)用場(chǎng)景上也略有差異。碳化硅具備更高的熱導(dǎo)率,主要面向新能源汽車(chē)、光伏發(fā)電、軌道交通、智能電網(wǎng)等高壓、高功率應(yīng)用;而氮化鎵則以其更高的電子遷移率,高頻特性較好,廣泛應(yīng)用于PD快充、新能源充電樁、5G通信等領(lǐng)域。


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圖2:碳化硅及氮化鎵應(yīng)用優(yōu)勢(shì)領(lǐng)域

(圖源:英飛凌)


整體而言,碳化硅、氮化鎵器件市場(chǎng)已經(jīng)初具規(guī)模,在功率和射頻應(yīng)用領(lǐng)域完成了對(duì)硅基半導(dǎo)體器件的初步替代。但由于材料制備技術(shù)、器件制造與封裝工藝、動(dòng)靜態(tài)測(cè)試、驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)優(yōu)化以及可靠性等問(wèn)題尚未完全解決,導(dǎo)致第三代半導(dǎo)體器件的性能大打折扣,無(wú)法完全發(fā)揮其材料本身的優(yōu)勢(shì)。關(guān)鍵技術(shù)不成熟、成本居高不下,第三代半導(dǎo)體器件自然難以實(shí)現(xiàn)更大規(guī)模的商業(yè)化落地。下面我們就從碳化硅、氮化鎵器件的應(yīng)用痛點(diǎn)出發(fā),梳理一下國(guó)際大廠是如何攻克這些難題的。


優(yōu)化封裝技術(shù)突破開(kāi)關(guān)性能限制


與硅功率半導(dǎo)體相比,碳化硅功率器件擁有更快的開(kāi)關(guān)速度、更小尺寸和更低損耗,有望在諸多應(yīng)用中取代IGBT。然而受限于傳統(tǒng)封裝技術(shù),碳化硅功率器件的性能優(yōu)勢(shì)難以完全得到發(fā)揮。傳統(tǒng)封裝形式通常采用TO-247N,柵極引腳和源極引腳的寄生電感將會(huì)與寄生電容發(fā)生振蕩,從而使MOSFET導(dǎo)通所需的柵極電壓降低,導(dǎo)通速度減慢。為此,一些廠商正在尋求更完善的封裝方案,以優(yōu)化器件性能,進(jìn)一步挖掘碳化硅器件潛力。


貿(mào)澤電子在售的來(lái)自制造商ROHM Semiconductor的SCT3080KW7TL,是一款7引腳SiC功率MOSFET。SCT3080KW7TL采用了TO-263-7L表貼封裝,將電源源極與驅(qū)動(dòng)器源極引腳分離開(kāi),可提供獨(dú)立于電源的驅(qū)動(dòng)器源,有效消除了導(dǎo)通時(shí)源極電感對(duì)柵極電壓的影響。導(dǎo)通時(shí),電流變化時(shí)間縮減,導(dǎo)通損耗降低;關(guān)斷時(shí),寄生電感減少,關(guān)斷損耗也相應(yīng)降低。此外,SCT3080KW7TL專(zhuān)有的溝槽式柵極結(jié)構(gòu)將導(dǎo)通電阻降低了50%,輸入電容降低了35%。


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圖3:SiC MOSFET平面結(jié)構(gòu)與溝槽結(jié)構(gòu)性能比較

(圖源:羅姆)


具體來(lái)看,SCT3080KW7TL漏源極擊穿電壓為1.2kV,連續(xù)漏極電流為30A,具有很低的漏源導(dǎo)通電阻,數(shù)值為104mΩ。獨(dú)立式驅(qū)動(dòng)器源極也讓SCT3080KW7TL驅(qū)動(dòng)更加簡(jiǎn)單便捷、易于并聯(lián),有助于進(jìn)一步降低應(yīng)用設(shè)備的功耗。在太陽(yáng)能逆變器、DC/DC轉(zhuǎn)換器、開(kāi)關(guān)電源、電機(jī)驅(qū)動(dòng)等領(lǐng)域,SCT3080KW7TL已經(jīng)取得了廣泛應(yīng)用。


ROHM Semiconductor另一款也在貿(mào)澤有售的BM2SC121FP2-LBZE2,則是一款準(zhǔn)諧振AC/DC轉(zhuǎn)換器IC。該芯片同樣采用了小型表貼封裝TO-263-7L,內(nèi)部集成了1700V耐壓SiC MOSFET及其柵極驅(qū)動(dòng)電路。與Si-MOSFET相比,BM2SC121FP2-LBZE2將AC/DC轉(zhuǎn)換器控制IC、800V耐壓Si-MOSFET、齊納二極管、電阻器和散熱板集成在一個(gè)封裝內(nèi),極大地削減了部件數(shù)量,在小型化方面極具競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。同時(shí),該芯片內(nèi)置了高精度過(guò)熱保護(hù)功能,實(shí)現(xiàn)了更高的可靠性能。


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圖4:BM2SC12xFP2-LBZ應(yīng)用電路

(圖源:羅姆)


此外,BM2SC121FP2-LBZE2采用了電流檢測(cè)電阻作為外部器件,IC設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單且高度靈活??刂齐娐凡捎脺?zhǔn)諧振方式,運(yùn)行噪聲低、效率高、可軟啟動(dòng),可充分降低EMI。整體而言,BM2SC121FP2-LBZE2為大功率逆變器、AC伺服等工業(yè)設(shè)備提供了低成本、小型化、高可靠性、高效率的AC/DC轉(zhuǎn)換器解決方案。


調(diào)整驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)降低功率損耗


作為柵極電壓控制器件,MOSFET柵極驅(qū)動(dòng)電壓的振蕩直接影響著元器件的可靠性,更甚至?xí)斐呻娐饭收匣蚴?。MOSFET器件在轉(zhuǎn)換過(guò)程中,柵極與漏極之間的米勒電容將會(huì)誘發(fā)米勒振蕩,干擾柵源極電壓上升,從而延長(zhǎng)了開(kāi)關(guān)切換時(shí)間,導(dǎo)通損耗大幅增加,系統(tǒng)穩(wěn)定性也隨之降低。對(duì)于SiC MOSFET而言,其出色的開(kāi)關(guān)速度和性能更是加劇了米勒導(dǎo)通效應(yīng)。因此,如何減少米勒電容、降低米勒效應(yīng)的影響,成為各大廠商迫切需要解決的難題。


對(duì)此,貿(mào)澤電子在售的來(lái)自STMicroelectronics的SCTH35N65G2V-7AG提供了一種效果顯著的解決方案。SCTH35N65G2V-7AG采用了STMicroelectronics第二代碳化硅MOSFET技術(shù),具有極低的導(dǎo)通電阻和優(yōu)異的開(kāi)關(guān)性能。該器件漏源極擊穿電壓為650V,漏源導(dǎo)通電阻最大67mΩ,柵極電荷和輸入電容極小,廣泛應(yīng)用于開(kāi)關(guān)電源、DC/DC轉(zhuǎn)換器和工業(yè)電機(jī)控制等領(lǐng)域。


為了緩解米勒效應(yīng),SCTH35N65G2V-7AG采用了有源米勒鉗位技術(shù),在瞬態(tài)電壓額定值低于20V/ns時(shí),有效地抑制了米勒振蕩,減少了開(kāi)關(guān)的錯(cuò)誤導(dǎo)通率,提高了系統(tǒng)穩(wěn)定性。在較高瞬態(tài)電壓下,SCTH35N65G2V-7AG則通過(guò)在柵源極使用齊納保護(hù)限制振鈴,進(jìn)一步優(yōu)化電路輸出波形。


此外,與傳統(tǒng)IGBT相比,在相同額定電壓和等效導(dǎo)通電阻下,SCTH35N65G2V-7AG表現(xiàn)出更加優(yōu)秀的耐高溫、低損耗性能,適用于高開(kāi)關(guān)頻率應(yīng)用場(chǎng)景,可減小無(wú)源元件的尺寸。同時(shí),SCTH35N65G2V-7AG的導(dǎo)通損耗與關(guān)斷損耗均不受結(jié)溫影響。溫度從25℃上升至175℃時(shí),該器件的導(dǎo)通電阻變化率明顯低于競(jìng)爭(zhēng)產(chǎn)品。


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圖5:導(dǎo)通電阻隨溫度的變化

(圖源:STMicroelectronics)


STMicroelectronics另一款貿(mào)澤在售的單柵極驅(qū)動(dòng)器STGAP2SICSNTR為中高功率應(yīng)用提供了一個(gè)易于使用的驅(qū)動(dòng)方案。該器件可在柵極驅(qū)動(dòng)銅導(dǎo)與低壓控制接口電路間提供電流隔離,具備4A與軌到軌輸出能力。STGAP2SICSNTR提供了兩種不同的配置選項(xiàng),第一配置具有獨(dú)立輸出引腳,通過(guò)使用專(zhuān)用的柵極電阻器獨(dú)立優(yōu)化導(dǎo)通和關(guān)斷。第二種配置則具備單輸出引腳和米勒鉗位功能,抑制了半橋拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)高速轉(zhuǎn)換時(shí)產(chǎn)生的柵極尖峰。總體而言,STGAP2SICSNTR為功率轉(zhuǎn)換和電機(jī)驅(qū)動(dòng)器逆變器等工業(yè)應(yīng)用提供了高度靈活、成本低廉的設(shè)計(jì)方法。


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圖6:STGAP2SICSNTR兩種配置電路框圖

(圖源:STMicroelectronics)


STGAP2SICSNTR內(nèi)置了UVLO和熱關(guān)斷保護(hù)功能,可針對(duì)SiC MOSFET進(jìn)行值優(yōu)化。通過(guò)雙輸入引腳選擇控制信號(hào)極性,實(shí)現(xiàn)硬件互鎖保護(hù),避免控制器故障時(shí)發(fā)生交叉輸出,可幫助工程師輕松設(shè)計(jì)高可靠性系統(tǒng),提升系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定性和抗干擾能力。


此外,STGAP2SICSNTR高壓軌高達(dá)1,700V,全溫度范圍內(nèi)dv/dt瞬變抗擾性在100V/ns左右,輸入輸出延遲低于75ns,PWM控制精度較高,能夠有效提高系統(tǒng)精度。


貿(mào)澤電子在售的STMicroelectronics GaN半橋高壓驅(qū)動(dòng)器MASTERGAN1TR,采用電源系統(tǒng)級(jí)封裝,集成了半橋柵極驅(qū)動(dòng)器和兩個(gè)增強(qiáng)型高壓GaN晶體管,為開(kāi)關(guān)電源、充電器、太陽(yáng)能發(fā)電、UPS系統(tǒng)、高壓PFC、DC/DC和DC/AC轉(zhuǎn)換器等應(yīng)用提供了簡(jiǎn)單緊湊的解決方案。


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圖7:MASTERGAN1TR電路框圖

(圖源:Mouser)


MASTERGAN1TR還內(nèi)置了集成式功率分流器和自舉二極管,漏源導(dǎo)通電阻約150mΩ,漏源擊穿電壓為650V,可為嵌入式柵極驅(qū)動(dòng)器快速供電。同時(shí)提供UVLO保護(hù)和互鎖保護(hù),避免電源開(kāi)關(guān)在低效率或危險(xiǎn)條件下工作。


總結(jié)


隨著新能源汽車(chē)、電力電網(wǎng)和5G通信等領(lǐng)域迅速發(fā)展,以碳化硅、氮化鎵為代表的第三代半導(dǎo)體憑借著其在高壓、高溫、高頻應(yīng)用中的優(yōu)勢(shì),逐漸顯露出對(duì)硅基半導(dǎo)體的替代作用。然而受限于傳統(tǒng)封裝工藝、驅(qū)動(dòng)設(shè)計(jì)等技術(shù)瓶頸,第三代半導(dǎo)體器件散熱、可靠性方面都面臨著新的難題和挑戰(zhàn)。


面對(duì)這些應(yīng)用痛點(diǎn),貿(mào)澤在售的多種類(lèi)型的功率器件及模塊、門(mén)驅(qū)動(dòng)器在封裝工藝和驅(qū)動(dòng)技術(shù)方面進(jìn)行了創(chuàng)新和優(yōu)化,打破了傳統(tǒng)技術(shù)的限制,最大限度地挖掘了寬禁帶半導(dǎo)體材料的性能優(yōu)勢(shì),推動(dòng)寬禁帶半導(dǎo)體器件更大規(guī)模的商業(yè)化應(yīng)用落地。


技術(shù)發(fā)展日新月異,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)于新材料及材料技術(shù)的追求從未止步,超寬禁帶半導(dǎo)體材料逐漸走進(jìn)人們的視野。以氧化鎵(GaO)為例,與碳化硅和氮化鎵相比,該材料的帶隙更寬、擊穿場(chǎng)強(qiáng)更高,在大功率、高頻率、高電壓設(shè)備中擁有更高的應(yīng)用價(jià)值和更廣闊的發(fā)展前景。跟隨技術(shù)演進(jìn)方向,貿(mào)澤也將不斷擴(kuò)展產(chǎn)品類(lèi)目,豐富解決方案,全面助力寬禁帶、超寬禁帶半導(dǎo)體的發(fā)展。



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